電子探針X射線微區(qū)分析儀的分析對象從幾厘米到幾微米;X射線光電子能譜儀(XPS)分析對象從幾毫米到幾微米;掃描探針顯微鏡(SPM)觀察范圍從100微米到幾納米。
實現(xiàn)微區(qū)超高靈敏度分析技術(shù):
1、高亮度肖特基發(fā)射體
場發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大,輸出更高。即可以保持其高亮度,還可提供高靈敏度分析的穩(wěn)定大電流。
2、EPMA電子光學系統(tǒng)
電子光學系統(tǒng),聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè),交叉點不是靠聚光透鏡形成,而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上,具有獨立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的(日本:第4595778號)。簡單的透鏡結(jié)構(gòu),既能獲得大束流,同時全部電流條件下設定合適的打開角度,將電子束壓縮到細。當然是不需要更換物鏡光闌的。
3、超高真空排氣系統(tǒng)
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔(orifice)間隔方式的2級差動排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到小,以控制流入中間室的氣體,使電子槍室始終保持著超高真空,確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。
4、高靈敏度X射線譜儀
最多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時,又可減小樣品對X射線的吸收,實現(xiàn)高靈敏度的分析。